模板,母模 & 模片 (STAMPS, MASTERS & SHIMS)
NILT 能成为卓越机器制造商而备受世界客户赞赏,其划时代的纳米级模具制造技术是最重要的支持。 客户可以不受限制地设计出属于自己的图形而又准确地体现在母模上,利用复制出来的子模,无论是试验或生产, 客户都可避免直接用母模可能产生的损伤导致的金钱损失,子模更能进一步造出镍模片帮您完成其他任务。NILT服务确实一应俱全。

硅质模板 (SILICON NIL STAMPS)

NILT客户可随意地设计出纳米图形,我们会用电子束E-BEAM LITHOGRAPHY, 紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY 或NIL 刻蚀出硅模板, 根据客户要求再造出聚合物子模或镍材模具。硅NIL模板可以以硅晶圆或切割成方块交给客人。 NILT是世界上最重要硅模板供应商之一,产品应用十分广泛,例如生物科技、蓝宝石图形化PSS等。
规格
Stamp materialSilicon
Stamp sizes (wafer)2", 4", 6"
Stamp sizes (square)Any square format cut from wafers
Stamp thickness500 µm (2"), 525 µm (4"), 650 µm (6")
Minimum lateral dimension20 nm
Aspect ratioUp to 1:10 (pattern dependent)
DesignCustomer specified
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional)
Delivery timeTypically 4 weeks
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional)
Delivery timeTypically 4 weeks

石英 QUARTZ 模板 (FUSED SILICA NIL STAMPS)

NILT客户可随意地设计出纳米图形,我们会用电子束E-BEAM LITHOGRAPHY, 紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY 或NIL 刻蚀出硅模板,根据客户要求再造出聚合物子模或镍材模具。 硅NIL模板可以以硅晶圆或切割成方块交给客人。 FUSED SILICA模板因为透明度高所以用得最多应该是在UV 纳米压印UV NIL。
规格
Stamp materialused silica (Quartz)
Stamp sizes (wafer)2", 4", 6"
Stamp sizes (square)Any format cut from wafers
Stamp thickness1 mm (other upon request)
Minimum lateral dimension20 nm
Aspect ratioUp to 1:5 (pattern dependent)
DesignCustomer specified
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional)
Delivery timeTypically 4 weeks

镍模片 (NICKEL SHIM)

NILT可以从硅晶圆、聚合物或石英模板复制出镍片。 原创图形方法很多,除了电子束E-BEAM LITHOGRAPHY, 紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY 或NIL 刻蚀外,镭射干涉蚀刻法LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY 或 镭射画写LASER WRITING, 客户可以注明镍片是四方或长方形,最大尺寸甚至可达600mm X 60mm. 镍片在纳米压印技术上应用甚广,包括光电相关的如增光膜、抗反射膜, 在医学领域和实验室晶片LAB-ON-A-CHIP也趋普遍。
规格
Stamp materialNickel
HardnessDifferent alloys are available
Stamp sizes2", 4", and square up to 600 mm x 600 mm
Stamp thickness100 um — 2 mm
Minimum lateral dimension100 nm
Aspect ratioUp to 1:3 (pattern dependent)
DesignCustomer specified
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional)
Delivery timeTypically 4-6 weeks

聚合物模板 (POLYMER NIL STAMPS)

NILT同样不会对图形设计作出任何限制。NILT客户可随意设计出纳米图形,母模制造通常会用电子束E-BEAM LITHOGRAPHY或紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY。 聚合物可以从石英或硅晶圆复制出来,一般交货时都以硅晶圆片托底。 聚合物模板的应用很广,包括折射膜、线路网格、传感器和疏水膜HYDROPHOBIC FILM。
规格
Stamp materialCOC, COP
Stamp sizesUp to 6 inch round
Stamp thickness200 µm — 1 mm
Minimum lateral dimension100 nm
Aspect ratioUp to 1:3 (pattern dependent)
DesignCustomer specified
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional, material dependent)
Delivery timeTypically 4 weeks

PDMS 模板 (PDMS NIL STAMPS)

NILT 不会对图形设计作出任何限制。NILT客户可随意设计出纳米图形,母模制造通常会用电子束E-BEAM LITHOGRAPHY,NIL蚀刻或紫外光蚀刻UV LITHOGRAPHY。 PDMS可以从石英或硅晶圆复制出来,一般交货时都以硅晶圆片托底。 MICROFLUIDICS & LOC SHIMS 微流控器&实验室晶片 微流控器&实验室晶片的应用一般需要镍模片,NILT会以热压或注模INJECTION MOLDING方式制造镍模片给。
规格
Stamp materialPDMS
Stamp sizes (wafer)Up to 6 inch round
Stamp thickness1 mm (other upon request)
Minimum lateral dimension20 nm
Aspect ratioUp to 1:3 (pattern dependent)
DesignCustomer specified
Design file formatgds, dxf, tdb
Anti-stickingFDTS (optional)
Delivery timeTypically 4 weeks
标准模板 (STANDARD STAMPS)
NILT 的客户来自不同的领域,这种网络与经验容许我们在不同的领域里都能提供一系列标准规格的模板。

抗反射膜 (ANTI-REFLECTION)

在抗反射膜标准模板系列内,我们包含了可见光范围和近红外范围,以大面积为主,若客户想订制更大面积,我们乐意接受。

• 鹅眼结构
• 反射率可减低到 0.2%
规格Type BType AType C
Stamp IDARSS_B_06ARSS_A_02ARSS_C_02
MaterialNickelNickelNickel
Grating typeHexagonal ArrayHexagonal ArrayHexagonal Array
Pitch300 nm250 nm250 nm
Average height300 nm350 nm350 nm
Stamp thickness*300 µm300 µm300 µm
Stamp size*70 mm x 70 mm120 mm x 120 mm250 mm x 250 mm
Active area*50 mm x 50 mm100 mm x 100mm 200 mm x 200 mm
Expected %R PMMALess than 0.6%Less than 0.2%Less than 0.2%
Pattern polarityProtrusionsProtrusionProtrusions
规格Type NIR
Stamp IDARSS_NIR_02
MaterialNickel
Grating typeHexagonal Array
Pitch500 nm
Average heightLarger than 700 nm
Stamp thickness*300 ?m
Stamp size*100 mm x 100 mm
Active area*80 mm x 80 mm
Expected %R acrylic polymer @ 900 nmLess than 0.2%
Expected %R acrylic polymer @ 1500 nmLess than 0.3%
Pattern polarityHoles

精工增光模 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)

增光膜功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量,例如镭射、LED、LCD的背光源,而同时拥有很高的透光率。 NILT可帮客户订造精工增光模精准控制增光度,并可选择直线、椭圆形和圆形的效果。 我们这一增光模板系列是特意为研发阶段兼且有生产意向的客户订制,使用性非常强。

• 精工增光模板
• 直线或圆形
• 模板面积可达 120mm x 120mm
规格
Circular versionType BType D
Stamp IDEDSS_B_C_V1EDSS_D_C_V1
Structure typeEngineered DiffuserEngineered Diffuser
Output typeCircular diffusionCiruclar diffusion
Diffusion angles (FWHM)*25o25o
MaterialNickelNickel
Stamp thickness300 µm300 µm
Stamp size70 mm x 70 mm120 mm x 120 mm
Active area50 mm x 50 mm100 mm - 100 mm
规格
ALinear versionType BType D
AStamp IDEDSS_B_L_V1EDSS_D_L_V1
AStructure typeEngineered DiffuserEngineered Diffuser
AOutput typeLinear diffusionLinear diffusion
ADiffusion angles (FWHM)*1o / 80o1o / 80o
AMaterialNickelNickel
AStamp thickness300 µm300 µm
AStamp size70 mm x 70 mm120 mm x 120 mm
AActive area50 mm x 50 mm100 mm x 100 mm

衍射光栅 (DIFFRACTION GRATINGS)

NILT提供的衍射光栅是大型镍制模板,其纹路可呈线状或交叉状,双方的线距为500nm,平均深度为250nm。

• 80mm x 80mm有效面积(模板面积为100mm x 100mm)
• 纹路形状呈正弦曲線SINUSOIDAL
• 纹路不同的参数适合:
    - LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING
    - 将不同光导入波导WAVEGUIDE
    - 分开光束
    - 镭射感应器
    - 薄膜行业和太阳能光伏
规格Linear GratingCrossed grating
Stamp IDDG_L500DG_C500
MaterialNickelNickel
Profile shapeSinusoidalSinusoidal
Pitch500 nm500 nm
Average depth250 nm250 nm
Stamp thickness*300 µm300 µm
Stamp size*100 mm x 100 mm100 mm x 100 mm
Active area*80 mm x 80 mm80 mm x 80 mm

金属线栅偏光镜 (WIRE GRID POLARIZER)

纳米压印造出的金属线栅偏光镜一般需要测试,而最佳选择家使用NILT的金属线栅偏光镜标准模板。 我们的标准模板最大有效面积为12mm x 12mm, L/S 50nm, 线呈漕状,模板复制子模适用于UV或热压过程。

• 有利于纳米压印和金属线栅偏光镜的测试成本控制
• 漕宽、漕距均为50nm
规格Type AType B
Stamp IDWGPSS_A_V1WGPSS_B_V1
Stamp size2 inch round wafer with flat2 inch round wafer with flat
Stamp materialSiliconSilicon
Active area12 mm x 12 mm6 mm x 6 mm
Stamp thickness500 µm +/- 25 µm500 µm +/- 25 µm
Structure size50 nm wide grooves with 50 nm spacing50 nm wide grooves with 50 nm spacing
Lateral tolerances+/- 10 nm+/- 10 nm
Structure depth100 nm100 nm
Vertical tolerances+/- 15 nm+/- 15 nm
Defect densityLess than 0.01% of patterned areaLess than 0.01% of patterned area

微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)

NILT提供的微针体标准模板是微针体的反面即微孔模板,经热压或铸均可造出所需微针形状。 又或先由标准模板复制一个聚合物子模,再经镀镍造出注塑用镍片,微针体可利用注塑过程而成。 标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试,医学方面的涂药式微针或注射式微针也在应用行列。

• 微针呈方块排列相隔500um
• 有效面积达70mm(斜角计)
规格Micro-needle - Type A
Stamp IDMNSS_A_V1
Stamp materialSilicon
Microneedle layoutSquare array
Microneedle base size100 µm x 100 µm
Microneedle height200 µm (base to tip)
Microneedle tip height70 µm
Microneedle tip radius of curvature~1 µm
Microneedle spacing500 µm
Stamp size100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)
Stamp thickness525 µm (SEMI standard wafer with a flat)
Active area70 mm diagonal square area in the center

大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)

大面积柱形标准模板是以方形排列光子晶体并分布在4个1cm2格子的硅晶圆上。

• 质量与成本效益都非常高
• 面积大兼可选4种不同规格的柱形
• 光子晶体结构
• 结构尺寸125nm – 275nm
规格
Stamp IDLAPSS_V1
Stamp size2 inch round wafer
Stamp materialSilicon
Stamp thickness525 µm +/- 25 µm
Structure size125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)
Structure pitch200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm
Protrusion height100 nm - 300 nm (you decide!)
Tolerance, lateral and vertical dimensions+/- 15%
Defect densityLess than 0.1% of total patterned area

微图形标准模板 (MICRO)

这种标准模板是为测试多种纳米压印, 有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状,其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。
规格
Stamp IDMSS_V1
Stamp size20 mm x 20 mm
Stamp materialSilicon
Stamp thickness1 mm
Structure size1 µm - 50 µm
Etch depth2 µm, 5 µm or 10 µm
Pattern field size4 mm x 4 mm
Delivery time3-4 weeks

亚微米标准模板 (SUB-MICRO)

NILT 的亚微米标准模板是专门为测试亚微米至纳米级压印的最适当工具;图形有3种,包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um),材料可选择硅或石英,以20mm x 20mm为标准尺寸。
规格
Stamp IDSMSS_SIQZ_V1
Stamp size20 mm x 20 mm
Stamp materialSilicon or Fused Silica
Stamp thickness1 mm
Structure size500 nm - 2 µm
Etch depth1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica
Pattern field size5 mm x 5 mm
Delivery time3-4 weeks