现时有颇多领域，例如光电、太阳能等，对特大面积模板上造出纳米级图形有着越来越大的需求。一般制作纳米图像转移，可能只有10mm X10mm大的已经是一项挑战，现在面积动辄上1平方米而且不能有缝，这就更显得往极限挑战。 以上介绍过造母模板的方法当中，我们选择了干涉式蚀刻法Interference Laser Lithography.

UV 蚀刻在半导体行业中4-12”晶圆被普遍使用。为回应市场对大面积蚀刻的需要，例如平面的显示或图形大于10微米的集成电路，我们建造了两台UV 蚀刻线。

从已图形化的UV胶复制出金属模具，我们的电铸工艺给客户多一个有保证的选择。最终用上什么金属决定我们在图形上怎样溅镀和溅镀些什么，不同的金属对脱模有不同反应。