UV 蚀刻（UV LITHOGRAPHY）

UV 蚀刻在半导体行业中4-12”晶圆被普遍使用。为回应市场对大面积蚀刻的需要，例如平面的显示或图形大于10微米的集成电路，我们建造了两台UV 蚀刻线。

• 晶圆最大8“
• 大面积20 x 24“（500mm x 600mm）

我们花了很长时间研发大面积曝光，现时是世界唯一使用UV蚀刻大面积地（500 x 600mm） 蚀刻出0.8微米和高宽比例（aspect ratio）达5的结构。我们与世界顶尖的光刻胶都做过配对测试并得出理想结果。

因应客户便于脱模，我们设备已专门为结构垂直部分有0-8度缓冲调校。