RDA-800

今天手机和平板电脑之类的电子产品在功能方面已大大增多，加上为着消费者便于携带，产品本身需要微型化才合乎市场需求，这种需求揭开了动半导体工业迎战巨大市场挑战的序幕。

科学家共同在有限的空间，一块小小的芯片上构造更多的器件来增加记忆、增加功能；现今单在一块晶圆上就有几十层的器件，而光蚀刻仍是目前最普遍可靠的工艺。一连串追求更低分辨率（Resolution）的竞赛开始了，所以对数值孔径（Numerical Aperture NA）的要求越来越高；光源波长越来越小；光栅设计人员想尽办法以光学临近修正法（Optical Proximity Correction）将光蚀刻各环节出现的图像误差，通过修改原设计得以改善最终图像的分辨率；转移图像又由单图像改成到双图像（double patterning)，甚至4图像（quadruple patterning）， 纵使以上这些光学（optics）方面的进展我们有目共睹，更大的进展也得与光刻工艺中的化学部分配合，亦即是光刻胶（photoresist）的配合。

长期以来光刻胶经过曝光后来到到化学显影，一直都是比较棘手的一个步骤。
怎样精确地在指定区域保留或完全溶解掉并洗走，在纳米级情况下更觉困难。

对比值 (gamma γ) 被认为是鉴定光刻胶高曝光区和非曝光区的浴解度差别, 是提高分辨率的关键。

如敏感度（Eth ）以及抑制剂浓度（M），这些数值不单对光刻胶生产商又帮助，亦可以供参考用于生产光刻胶的主要成分, 例如光敏化合物/光话性化合物(PAC)和光致产酸剂( PAG )

还有对一些要求甚高的光刻胶生产商希望最终光刻效果能明显减低器件边墙粗糙和线边粗糙（Sidewall Roughness/LER），酸扩散值（Diffusion Length）和表面不容化值（Surface Insolubility）都是需要好好掌握的数据。

RDA系列光刻胶显影分析仪是LTJ的代表作。
18频道同时在最大8“硅片上进行分析，既能省时间又增加准确性。
在日本和韩国，几乎所有光刻胶或生产光刻胶材料的制造商都用LTJ RDA分析仪帮助准确获得其性能的数据，大大提高光蚀刻模拟试验的可靠性。

专家推荐

• Chris A. Mack
• 花畑　誠（Hanabatake Makoto）

致各界朋友：

您们好！
我已和LITHO TECH JAPAN (LTJ)在不同的项目紧密合作超过20年。
LTJ曾是我的电脑软件PROLITH亚洲代理，我亦曾是他们RDA分析仪在美国的代理。
我们的科研合作带给大家多份关于光刻胶特征分析和改造其性能参数的科学报告。
LTJ的光蚀刻技术及产品沉淀了深厚的经验， 它有效地改良了半导体工业中的光蚀刻工艺。

RDA系列是最令LTJ觉得骄傲的代表作。它一手帮世界最有名的光蚀刻制造商迅速及有效地解决光刻问题，同时提供最值得参考的光刻胶特征参数。
我深信LTJ的RDA分析仪绝对能够对中国的半导体行业作出贡献。
谢谢！

Chris A. Mack
Chris@lithoguru.com
www.lithoguru.com


背景介绍：
Chris Mack 美国德州奥斯丁大学（UNIVERSITY OF TEXAS AT AUSTIN）化学工程系博士， 曾在美国国家安全局 NATIONAL SECURITY AGENCY （NSA） 的光学蚀刻研究所工作，在SEMATECH研究对DUV 光蚀刻有超卓的贡献，及后出任FINLE主席及首席技术主任，后来KLA Tencor买了FINLE， 他更当上了KLA的副主席，上任5年后他再执教鞭兼任企业专家顾问。 Chris是 SPIE 和 IEEE 的资深成员。 另最为人知的是Chris是PROLITH TOOLKIT （TM）光蚀刻模拟软件的发明人。

中文

Litho Tech Japan Corporation　产　RDA800的推荐信
2015.7.9 富山県立大学/神奈川大学・客座教授
花畑　誠（Hanabatake Makoto）

1. 主旨
制造半导体，显示器，MEMS等电子组件的材料，特别是光刻胶，防反射膜的研究开发，制造，品质管理，制造设备等时，强力推荐Litho Tech Japan Corporation制造的RDA800装置。

2. 我与该装置的 关系
我在 住友化学（株）、（株）KRI、日产化学工业（株）等企业，从事光刻胶的研发，企业化，生产销售 共38年。特别是在住友化学（株）期间使i线光刻胶获得60%的份额；在日产化学工业（株）期间，使防反射膜获得70%的份额（都是世界市场份额）。目前还是两家公司的主力产品，备受客户青睐。
在研发这些产品中RDA装置起了很大的作用，对我来说真是不可缺少的必备装置。

3. RDA的特长

RDA的特长可以列举以下：
1. 实际上制造电子设备是所需的曝光装置价格很贵，但是有RDA就可以测定光刻胶的各种性能，而且充分发挥曝光装置的功能。
2. RDA不只限用于研发，而且还对应光刻胶的品质管理，优化光刻胶使用工艺条件，对应客户投诉等，应用广泛。
3. 安装该装置占地面积小，维护方便，操作人员可以在短时间内熟练掌握操作技术。
4. 与曝光设备相比，价格优惠，成本低。
5. 备受电子设备厂家的信赖，并且具备很优秀的数据再现性。
6. LTJ公司的维修，售后服务都很到位，并健全了对海外客户的服务体制

鉴于以上优点，目前几乎所有的光刻胶厂家， 树脂，感光材等原材料生产厂家，电子设备厂家等都在使用该装置。
我确信对于新加入光刻胶行业的生产厂家来说，是必备的装置。

以上

花畑　誠　简历
1976年 大阪大学大学院工学研究科毕业
就职于住友化学（株）从事半导体用光刻胶的开发
1992年 获得大阪大学工学博士
1994年 近畿化学協会授予「化学技術奖」
1997年 转到(株）KRI公司　从事委托研发项目
2006年 转到日産化学工業(株)　从事防反射膜，感光性有机无机杂化材料的开发
2014年起 就任富山県立大学、神奈川大学客座教授 至今

日文

リソテックジャパン（株）製　RDA800の推薦状
2015.7.9 富山県立大学/神奈川大学・客員教授　花畑　誠

1. 主旨
半導体、ディスプレイ、MEMS等のデバイス製造用材料、特にレジスト、反射防止膜の研究開発・製造・品質管理・デバイス製造用にリソテックジャパン株式会社製　RDA800を導入することを強くお勧めします。

2. 同装置との関わり
私は、住友化学（株）、（株）KRI、日産化学工業（株）で合計38年間、レジスト材料の研究開発、企業化、製造販売に従事してきました。特に住友化学（株）ではi線レジストで60％、日産化学工業（株）では反射防止膜で70％（いずれも世界シェア）の獲得に成功し、現在でも両社の主力製品として顧客の高い評価を得ています。
これらの研究開発に大活躍したのはRDAで、必須の装置でした。

3. RDAの特長
RDAの特長を列記すると下記となります。
1. 実際のデバイス製造に用いる高価な露光装置（ステッパーと呼ばれる）が無くてもレジストの各種性能を評価でき、ステッパーとの対応が十分取れる。
2. 研究開発のみならず、レジストの品質管理、レジスト使用プロセス条件の最適化、顧客対応、トラブルシューティングなどに幅広く対応できる。
3. 設置場所を取らず、メンテナンスも極めて簡単で、作業者の熟練までに多くの時間を要しない。
4. ステッパーに比べて非常に安価で、大幅なコストダウンが図れる。
5. デバイスメーカーの信頼も厚く、データの再現性にも優れる。
6. リソテックジャパン株式会社のメンテナンス、アフターサービスも手厚く、国内外でのフォロウ体制も十分である。

これらの点から、現在ではほとんどのレジストメーカー、樹脂、感光材等の原料メーカー、デバイス製造メーカーが同装置を導入しています。　
特に、新たにレジスト材料分野に参入しようとするメーカーにとって、導入が必須の装置であると確信しています。

以上

花畑　誠
1976年 大阪大学大学院工学研究科修了
住友化学（株）入社　半導体用レジストの開発に従事
1992年 大阪大学より博士（工学）取得　　
1994年 近畿化学協会より「化学技術賞」受賞　　　　　 　　
1997年 (株）KRI入社　受託研究に従事
2006年 日産化学工業(株)入社　反射防止膜、感光性有機無機ハイブリッド材料の開発に従事
2014年　富山県立大学、神奈川大学客員教授に就任、現在に至る

光刻胶分析用曝光装置