“利满科技引入的光刻胶及树脂的分析设备、模拟仿真软件，这些都是非常值得期待的产品，也真是业界所需的，花点功夫在基础研究方面与原厂交流还是很值得的一件事！”
王力元教授，北京师范大学化学学院高分子化学与物理研究所副教授，理学博士

1964年出生，浙江人。1980年考入北京师范大学化学系，84年毕业并考取本系研究生，1987年毕业获物理化学硕士学位后留校在应用化学研究所从事研发工作。

1997-1998年间在香港科技大学从事短期研究工作，1999年开始在化学系（学院）承担教学工作，主要研究领域为高分子感光成像材料及其在集成电路加工、印刷等领域的应用。为中国感光学会常务理事。
研究方向：感光性高分子/微细成像材料

主讲课程：化学专业英语、化学综合与设计实验、 光、电、磁功能高分子材料

目前主持的在研课题：
1. 248nm深紫外光刻胶用光致产酸剂的关键技术研究 （北京市科委，2008－2009）
2. 新型高感度深紫外光致抗蚀剂材料研究 （北京市自然科学基金，批准号：2082014，2008－2010）
3. 新颖的高酸解性酯缩醛聚合物的合成及用于光致抗蚀剂材料 （国家自然科学基金，批准号：50773006， 2008－2010）