致各界朋友：

“我对日本LITHO TECH JAPAN的RDA光刻胶分析仪有较高的评价。

长久以来，我国光刻胶发展得比较落后，中高档次的基本全靠进口，在众多的电子化学品中，光刻胶是技术门槛是最高的一类，实行进口替代，路途艰巨。随着我国大力发展集成电路业，光刻胶本地化呼声越来越高。

现在科研人员可以利用RDA仔细分析光刻胶经过曝光后显影的各种特征，逐步掌握宝贵数据，给研发出自己的光刻胶打下基础，有望突破光刻胶制造的技术瓶颈！”
谢谢！陈宝钦

背景介绍：

陈宝钦教授，研究员，博士生导师

1942年生于福建省福州市，1966年毕业于北京大学物理系
1968-1985年就职于中国科学院半导体研究所
1986年至今于中国科学院微电子研究所
兼职中国科学院研究生院教授、北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长。
多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。