RDA 光刻胶显影分析仪 (Photoresist Development Analysis Instrument)
测量及分析光刻胶排气 (PR Outgas Measusing & Analysis)
PAGA-100 光至产酸剂去保护团反应分析仪 (PAGA-100 PAG Deprotection Reaction Analyzer)
树脂品质检定 (Resin Quality Inspection)
3合1 涂布/烘烤/显影 光刻胶小型实驗室 (3 in 1 Spincoat/Baking/Developing Robot unit. for Photorestist R&D)
化学扩大光刻胶 Chemically Amplified photoresist 当曝光时当中的光致产酸剂 PAG 的分子只需吸收一颗光子就可转化为强酸,PAG 和曝光能量相互的量子效率 Quantum Efficiency 主导着转化过程。强酸 H+ 当受适当加热(PEB)可以接连催化一连串化学反应 (chemically amplification),导致所谓光至产酸剂的去保护反应deprotection reaction。 过程受制于酸浓度、 温度及 酸扩散率,其中决定酸扩散率须视乎它的化学结构。
PAGA-100 是一台先进设计的付立叶变换 (Fourier Transform) 红外光谱仪 (FT-IR spectrometer), 它配备了曝光及烘烤功能,最适合用于观察 PAG 在曝光情况下解体和保护集团在后曝光烘烤 PEB 下的释放过程的实时分析。PAGA-100 可以计算出用于光学模拟仿真中所需的去保护反应参数 Deprotection Reaction Parameters, 包括:
1. 去保护反应参数( deprotection reaction parameter)
2. 酸扩散参数 (acid diffusivity parameter)
3. 酸损失参数 (acid loss parameter)
4. 猝灭剂参数 (quencher parameter)
5. 热分解参数 (thermal de-composition parameter)