化学扩大光刻胶 Chemically Amplified photoresist 当曝光时当中的光致产酸剂 PAG 的分子只需吸收一颗光子就可转化为强酸，PAG 和曝光能量相互的量子效率 Quantum Efficiency 主导着转化过程。强酸 H+ 当受适当加热（PEB）可以接连催化一连串化学反应 (chemically amplification),导致所谓光至产酸剂的去保护反应deprotection reaction。 过程受制于酸浓度、 温度及 酸扩散率，其中决定酸扩散率须视乎它的化学结构。

PAGA-100 是一台先进设计的付立叶变换 (Fourier Transform) 红外光谱仪 (FT-IR spectrometer), 它配备了曝光及烘烤功能，最适合用于观察 PAG 在曝光情况下解体和保护集团在后曝光烘烤 PEB 下的释放过程的实时分析。PAGA-100 可以计算出用于光学模拟仿真中所需的去保护反应参数 Deprotection Reaction Parameters, 包括：

1. 去保护反应参数( deprotection reaction parameter)
2. 酸扩散参数 (acid diffusivity parameter)
3. 酸损失参数 (acid loss parameter)
4. 猝灭剂参数 (quencher parameter)
5. 热分解参数 (thermal de-composition parameter)